UV/EB関連情報（１２月度’９９）
- 紫外線硬化樹脂インキを用いた点字加工技術がJIS制定される方向となってきた。日本工業標準調査会医療安全用具部会は、将来のJIS制定を前提とした標準情報（TR)案を作成、審議した。
（化工日１２／１）
- バンドー化学は、ポリエステルタイプの紫外線照射剥離テープのサンプル出荷を開始した。紫外線照射により粘着力を２０分の１に低減する。
（化工日１２／７）
- ディーメックは、光造形樹脂シリーズを拡充する。ゴム弾性を有するエラストマーライクなウレタン樹脂やポリエチレンに近い機械特性を有するエポキシ系樹脂を開発した。
（化工日１２／８）
- 阿南電機は、英国のファイバーテック社が開発した紫外線硬化機能を持つガラス繊維強化プラスチック（FRP)シート「UV（紫外線）硬化パッチ」の市場開拓に乗り出す。
（化工日１２／８）
- 帝人製機は、光造形樹脂のシリーズを強化、イミド系樹脂材料「TSR2090X」や熱変形温度３００℃の射出成形用樹脂「TSR1971」を発売した。
（化工日１２／９）
- 日新ハイボルテージは、照射サービス会社のラジエ工業と共同出資で電子ビーム照射サービスを受注する新会社「日新エレクトロンサービス」を設立した。
（日経産業１２／１０）
- 電子技術総合研究所は、ピーアイ技術研究所と共同で、次世代LSIの層間絶縁膜に適用できる感光性ポリイミドを開発した。
（日刊工業１２／２０）
UV/EB関連情報（１１月度’９９）
- 半導体エネルギー研究所は、次世代の薄型ディスプレーとして期待されている有機EL駆動装置に関する基本特許を米国で取得した。動画像再生に向くもの。
（日経産業１１／１）
- UV/EB硬化技術の最新動向、光重合開始剤を中心に（角岡大阪府立大教授）
（化工日１１／１６）
- JSRは、紫外線硬化型の有機・無機ハイブリッドタイプのハードコート材を開発、販売を開始した。タッチパネルや液晶表示パネルなどの表面保護用途むけ。
（化工日１１／１９）
- 信越化学工業は、半導体露光フォトレジストの生産能力を２０００年３月をめどに倍増する。年商百億円を目標。
（化工日１１／１９）
- 日本電信電話（NTT)は、半導体の微細加工に役立つフォトレジストを開発した。レジストの材料に架橋剤を加えたのが特徴。
（日経産業１１／２４）
- コンピューターケミストリーシステム一覧表
（化工日１１／２４・２５）
UV/EB関連情報（１０月度’９９）
- 松下電器は、きれいな動画像を再現できる液晶ディスプレー技術を開発した。新技術は液晶層と光学フィルムを組み合わせた「OCB」と呼ぶ液晶表示方式。
（日経産業１０／１）
- 三洋電機と米イーストマン・コダックは、ポリシリコンTFT（薄膜トランジスタ）液晶と有機EL（エレクトロ・ルミネッセンス）の技術を融合させ、業界で初めてアクティブマトリックス型フルカラー有機ELの開発に成功した。
（日刊工業１０／１）
- 関西ペイントは、プラズマ・ディスプレー・パネル(PDP)の半導体回路製造に使う感光性材料（レジスト）事業に本格参入する。感度が従来品の約百倍の液状レジスト「ゾンネLDI」を開発した。
（日経産業１０／１）
- 三井化学は、純粋な赤色を発光する有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)の材料開発にめどをつけた。
（日刊工業１０／４）
- 物質工学技術研究所は、紫外線照射により望みの色を固定できる材料を開発した。アゾベンゼン誘導体と分子量が１０００程度の中分子コレステリック液晶を組み合わせたもの。
（日刊工業１０／６）
- 液晶表示装置（LCD）製造機械メーカーのランテクニカルサービスは、LCD製造時の加熱工程を不要にする装置「アラインメント機能付き非接触光プレス装置」を開発。紫外線で反応して固化する接着剤を使用する。
（日経産業１０／１０）
- 旭有機材工業は、クレゾール系ノボラック樹脂と感光材原料（フェノール系バラスト材）について、高度な分子量制御とppbオーダーの低金属化を実現したフォトレジスト材料を開発した。
（化工日１０／２７）
- トッキは、次世代の超フラットディスプレーとして注目される有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)の成膜・封止試作実験用全自動システム「Small-ELVESS」を発売する。
（日刊工業１０／２７）
UV/EB関連情報（９月度’９９）
- 日本ユニシスとトランス・コスモスは、紫外線レーザー硬化樹脂を利用した住宅モデルを作製するシステムを共同開発した。日本ユニシスの住宅CADの３次元設計データから、光造形装置によりトランス・コスモスが立体モデルを作るもの。ソニー製光造形装置「JSC-2000」、JSR製の光硬化樹脂「SCR-801」を採用している。
（日刊工業９／１）
- 旭化成工業は、年内にも米国に固体シート状感光性樹脂「AFP」の販売会社を設立、米国フレキソ版材市場に参入する。
（化工日９／６）
- 日立化成工業は、シンガポール拠点での多層配線板生産能力を拡充する。２００１年春までに現状の月産５万平方メートルから８万平方メートルに引き上げ、アジアでのプリント配線板需要拡大に対応する。
（化工日９／８）
- 松下電器は、薄膜トランジスタ（TFT)液晶パネルの生産能力を、現状の２倍強、月産３７万枚（１０インチ換算）に引き上げる。２０００年８月をめどに量産を開始する。
（化工日９／１３）
- UVコートは、JR東日本とエスカレーター用ベルトに紫外線硬化塗料を塗装する新技術を開発した。新技術によりベルトの寿命が２倍以上と長くなり、汚れにくくなる。
（日刊工業９／１６）
- CD-R（追記型コンパクトディスク）の需要が伸びており、日本記録メディア工業会の予想をはるかに上回り、今年の全世界需要は１７億枚（前年比約２．７倍）に達するとみられる。
（化工日９／２１）
UV/EB関連情報（８月度’９９）
- 技術研究組合超先端電子技術開発機構（ASET)は、次世代の省エネルギー反射型液晶ディスプレー開発のキーマテリアルである超異方性光吸収性材料（二色性色素）と超異方性液晶性材料（高屈折率異方性液晶）などの異方性光学材料開発で成果を上げている。
（化工日８／２）
- 日本半導体製造装置協会（SEAJ)の半導体・液晶パネル製造装置の需要予測によると、１９９９年度の液晶パネル向け日本製装置販売額は、１２９９億円の見込みであり、２０００年は１７１７億円に達すると予測している。
（日経産業８／５）
- 米モトローラは、線幅０．１マイクロメートル以下の次世代半導体リソグラフィーを実現する新しいマスク形成技術を開発した。電子ビーム露光と超紫外線（EUV)リソグラフィーの二つの手法に於いて、実用化のめどをつけた。
（日刊工業８／９）
- 米３Dシステムズ社の光造形装置「SLAシリーズ」の国内販売総代理店であるインクスは、光造形装置の販売事業を強化する。１９９８年度の実績は２５台、１９９９年度は３５台の販売を目指している（従来機に比べて造形速度は４倍、積層ピッチは1/2の０．０２５ミリメートルと改良されている）。
（日刊工業８／２０）
- シミズは、紫外線(UV)硬化型の電着塗料を開発した。アクリル系の塗料で、電着塗装後の硬化過程にUV照射による硬化を取り入れたもの。商品名は「エレコートUA31」「エレコートUC500」。
（化工日８／１７）
UV/EB関連情報（７月度’９９）
- トッキは、次世代の薄型フラットパネルディスプレーとして注目されるELの量産に対応する「有機EL成膜・封止全自動システム」を開発、販売を開始する。(工程中、封止用パーツを紫外線硬化樹脂で接着）
（日刊工業７／１）
- NECなどの研究グループは、化学反応が起きているときの電子や原子の動きをスーパーコンピューターで視覚的に再現するシステムを開発した。
（日経産業７／２）
- 技術研究組合先端電子技術開発機構（ASET)は、直線偏光紫外光(LPUV)でポリマレイミド‐カルコン(PMI)系光配向材料が、偏光軸に対して平行な液晶配向することを見いだした。
（化工日７／５）
- エポキシ樹脂・副資材メーカーと主要製品一覧表
（化工日７／１６）
- 九州大学とふくや、出光興産などの共同研究チームは、納豆の糸の成分であるポリグルタミン酸の粉末に電子線を照射して、生分解性樹脂原料を開発した。
（日経産業７／２１）
- アトムテクノロジー研究所（JRCAT)は、周期的な柱を形成する独自のエッチング技術を用い、シリコンのフォトニック結晶を作製した。
（日刊工業７／２９）
UV/EB関連情報（６月度’９９）
- 三菱製紙は、感光材料技術を応用し、プリント配線板の新しいパターン形成方式を２種類開発した。導体幅と間隙が３０〜５０マイクロメートルを実現。
（日刊工業６／１）
- 松下産業機器は、半導体レーザーを励起光源に使って紫外線レーザー光を発生するプリント回路基板加工機を開発した。
（日刊工業６／２）
- 大東製機は、遠赤外線と紫外線を併用して、プリント基板の乾燥を効果的に短時間で行うハイブリッド高速乾燥装置「FIRUV（フィラブ）」を開発した。
（日刊工業６／２）
- 東京応化工業は、最先端プロセス用フォトレジストのラインアップを強化する。KrFエキシマレーザー対応製品では、デザインルール０．１５マイクロメートル対応製品のサンプル出荷を開始した。
（化工日６／４）
- 東北大学反応化学研究所の宮下教授らは、アクリルアミド系の高分子ラングミュア・プロジェット（LB)膜を使って、水を現像液にした高解像度ポジ型フォトレジストの合成に成功した。
（化工日６／７）
- 帝人製機は、イミド系の高耐水性グレードの光造形樹脂と、レーザー・スキャナー２台を搭載した大型高速光造形システムを開発した。今秋にも市場に投入する。
（化工日６／２５）
UV/EB関連情報（５月度’９９）
- 川崎地質は、電子線照射を利用したコンクリート構造物劣化診断システムを開発、検査サービスを始めた。
（日経産業５／５）
- 鹿児島松下電子は、カラー表示などに使われる青色・緑色LEDの輝度を従来の２倍に高める実装技術の開発に成功した。
（日経産業５／７）
- 富士ゼロックスは、ポリカーボネート樹脂に匹敵する摩耗性とポリシラン並みの優れた輸送性を示す電荷輸送性ポリマー（CTP)の開発に成功した。
（化工日５／７）
- 長瀬産業は、セントロニック社（英）のダイヤモンド薄膜UVセンサーを６月から国内販売する。感度波長が１３０〜２２５ナノメートルに限られブラインド性が高いため、正確な紫外線の感知ができる。
（日刊工業５／１２）
- チバ・スペシャルティ・ケミカルズは、世界で初めて繊維柔軟剤用の紫外線吸収材を開発した。近く世界で発売する予定。
（日刊工業５／１４）
- 大日本スクリーン製造は、半導体ウエハーのレジスト（感光性樹脂）塗布・現像装置の新機種を発売する。従来機より約３０％の省スペースを実現した。
（日経産業５／１９）
- UV・EBキュアリングの新しい展開（東京工業大学資源化学研究所市村国宏教授）
（化工日５／２１）
- クラリアントと現代電子産業（韓国）は、次世代ArFフォトレジスト製造に関してライセンス契約を締結した。
（化工日５／２４）
- 旭化成は、ドライフィルムレジスト（DFR)を大幅に増強、世界トップレベルの供給体制（８千万平方メートル／年）を来春確立する。
（化工日５／３１）
- フォトレジスト市況記事（世界市場は約８００億円、競争は一段と激化）
（日刊工業５／３１）
UV/EB関連情報（４月度’９９）
- 豊橋技術科学大学の英教授らは、エキシマレーザーを使ったレーザーアブレージョン法で鉄をターゲットにして鉄シリサイド薄膜の形成に成功した。
（日刊工業４／２）
- クラリアントは、台湾でフォトレジスト生産に取り出す。年内に調製工場を設立する方針である。
（化工日４／６）
- セーラー万年筆では、CD-R（追記型コンパクトディスク）製造ラインの販売が好調である。紫外線硬化工程を含む最終完成ディスクを６秒に１枚生産できる。
（化工日４／７）
- 大阪工業技術研究所光微細加工ラボラトリーグループは、近畿大学理工学部峠教授と共同で、紫外レーザーを用い精密なセラミックス薄膜の形成に成功した。
（化工日４／７）
- 米国の光造形システムメーカー、３Dシステムズは、三次元CADデータを活用して短期間でダイレクト金型を製造する技術を開発、国内でのライセンス販売を開始した。
（化工日４／１２）
- 物質工学工業技術研究所は、有機フォトクロミック（PC）材料を用いた汎用性の高い光ニューラルネットワークシステムを試作した。
（日刊工業４／２６）
- 福井県若狭湾エネルギー研究センターは、水素原子などをイオン化して加速したイオンビームを使用して、通常の３倍の大きさの花ラッキョウなど新しい植物の育種に成功した。
（日経産業４／２７）
UV/EB関連情報（３月度’９９）
- JSRは、米国拠点（カリフォルニア州）でKrFエキシマレーザー（波長２４８ナノメートル）用フォトレジストの量産を４月から開始する。本レジストは、配線パターン０．１８から０．１５マイクロメートルをターゲットとするもの。
（化工日３／９）
- パイオニアは、カラー表示の薄型次世代ディスプレーとして期待されるマルチカラー方式「有機EL（エレクトロルミネッセンス）」パネルの量産（月産１５万枚ペース）に入った。有機EL市場は、２００１年に世界で３００〜５００億円規模になると言われている。
（日経産業３／１９）
- 最新コンピューターケミストリーシステム（CCS)一覧
（化工日３／２４＆３／２５）
UV/EB関連情報（２月度’９９）
- ソニーケミカルは、環境汚染を引き起こす有機溶媒を使わずに製造した両面粘着テープを開発、４月から量産する（紫外線硬化技術利用）。
（日経産業２／２）
- 光ファイバーの価格は、市場拡大に伴う量産効果などを反映してここ数年、年率１０％程度のペースで下がっている。
（日経産業２／３）
- 米国の光造形システムメーカー、３Dシステムズは、従来機に比べ４倍の造形スピードを実現した世界最速の光造形装置と光造形樹脂を開発した。業務提携先であるインクスを通じて３月から受注活動を行う。
（化工日２／１０）
- 三菱化学は、LED（発光ダイオード）を利用して農作物を効率的に栽培する技術を開発した。特定の波長の光線を照射することで光合成を推進する。
（日経産業２／１４）
UV/EB関連情報（１月度’９９）
- 台湾永光化学工業は、台湾企業として初めて半導体フォトレジストを量産化する。能力は月間２００トン。
（化工日１／１１）
- 蛍光体・発光ダイオード製造の日亜化学工業は、紫色半導体レーザーのサンプル出荷を開始する（DVD記録容量が赤の２．６倍）。
（日経産業１／１２）
- 三洋電機は、光造形樹脂を使用した射出成形用樹脂型をコアに、従来より製作日数がほぼ１／２となる小ロット短納期の型製作システムを開発した。
（化工日１／１８）
- 光造形業界各社の動向に関する特集記事。
（日経産業１／２１＆１／２２）
- 吉川化工は、紫外線硬化型の特殊結晶化模様インク「クリスタラスターUVシリーズ」を実用化、本格市場開拓に乗り出した。
（化工日１／２８）
UV/EB関連情報（１２月度’９８）
- 住友重機械工業は、米エクセマール社と共同で低温ポリシリコン薄膜トランジスタ（TFT)型液晶パネルの量産に対応した、最大平均出力２００ワットの高出力エキシマレーザーの開発に成功した。９９年春からシステム販売活動に乗り出す。
（日刊工業１２／１）
- 液晶ディスプレー（LCD)用ITO（酸化インジウム・スズ）膜などの成膜加工専業大手メーカーのジオマティックは、光学多層膜設備を増強、２万セット／月の供給体制を整えた。
（化工日１２／２）
- 日本記録メディア工業会は、９８年と９９年の記録媒体の世界需要予測をまとめた。光ディスクのCD-R（追記型コンパクトディスク）の９８年度需要は、６億３千万枚（２１０％）、９９年度需要は、９億５千万枚（５１％）、磁気媒体のフロッピーディスクの９８年度需要は、２１億６千万枚（−１８％）、９９年度需要は、１８億２千万枚（−１６％）と予測している。
（日経産業１２／４）
- 三菱電機は、現行のエキシマレーザー設備を使い、０．１マイクロメートルサイズの超微細ホールパターンを形成する新技術を開発した。
（化工日１２／８）
- オムロンは、UVキュアリングや照射加工など広範囲に使われるUV光源の光量や、ランプ劣化状態を連続してモニタリングする「UVパワーモニタ」センサを開発、販売を始めた。
（化工日１２／８）
- 日本化薬は、光硬化型樹脂で、市場が立ち上がり始めたDVD用接着剤などの拡販を強化する。
（化工日１２／８）
- 信越化学工業は、半導体露光用フォトレジスト事業を強化する。０．１３マイクロメートルレベルを狙った次世代ArF（ふっ化アルゴン）エキシマレーザー対応製品を９９年早々にサンプル出荷する計画である。
（化工日１２／８）
- 東レは、相変化型の光ディスクで、５ギガバイトクラスでの実用化にめどをつける一方、１０ギガバイト以上の大容量についても、技術開発にむけて準備段階に入った。
（化工日１２／１６）
- NECと電機通信大学の清水富士夫教授らは、原子線ホログラフィーの縮少と多階調結像技術を開発した。
（日刊工業１２／１８）
- 無機材質研究所は、電子ビームを試料に照射する方法で、窒化ほう素のフラーレンを創製したと発表した。
（日刊工業１２／２２）
- 丸善石油化学は、９９年１月にもポリビニルピロリドン（PVP)の商業生産を開始、本格事業化に踏み切る。メディカル、感光性電子材料などに広範な用途で需要が期待できる。
（化工日１２／２２）
UV/EB関連情報（１１月度’９８）
- 東京都立大・益田助教授とNTT光エレクトロニクス研究所は、ナノメートルスケールのモールドを使って、シリコンやガリウムヒ素などの半導体表面に微細なチャンネル構造を形成することに成功した（電子ビーム利用）。
（化工日１１／２）
- アーデルは、接着剤技術を応用して、精密部品の製造工程で使用する、熱でも光でも固着する仮止め用のアクリル系薬剤の開発に成功した。
（化工日１１／５）
- 工業技術院電子技術総合研究所は、波長が１．３マイクロメートルで、光の持続時間が２０フェムト秒という極めて短いパルス状レーザーの発振に成功した。
（日経産業１１／５）
- 旭有機材工業は、フォトレジスト（フェノール樹脂ベース）用原料樹脂の製造能力を３倍に引き上げ、１９９９年秋に３００t／月体制とする。
（化工日１１／１２）
- UV・EBキュアリングの新しい展開に関する特集記事。
（化工日１１／１６）
- ダイセル化学工業と日本原子力研究所高崎研究所は、放射線（γ線）照射によるポリカプロラクトン（PCL)系生分解性発泡材を開発した。
（化工日１１／１８）
- 最新コンピュータケミストリーソフト一覧表。
（化工日１１／２４・２５）
- 東北大金属研究所の福田教授は、紫外線全固体レーザーで従来の世界最大出力の２倍以上となる３０．５ミリワットの発振に成功した。
（日刊工業１１／２５）
- 三菱電機は、光学技研と大阪大の佐々木教授と共同で従来の２倍の最高出力（２０ワット）を達成できる紫外線固体レーザーを開発した。
（日経産業１１／２５）
UV/EB関連情報（１０月度’９８）
- 旭電化工業は、耐熱性と強じん性を兼ね備えた光造形用エポキシ樹脂「アデカラスキュアHS
‐６８０」を開発、実用化した。
（日刊工業１０／１３）
- 電子技術総合研究所は、小型電子蓄積リング「NIJI‐IV」をベースとする自由電子レーザ（FEL）装置を用いて、短波長記録を更新する２１２ナノメートルでの発振に成功した。
（日刊工業１０／１６）
- 通産省工業技術院物質工学工業技術研究所（物質研）と同産業技術融合研究所（融合研）・アトムテクノロジー研究体（JRCAT）、東京大学などの共同研究グループは、特定のポリ（３‐アルキルチオフェン）（P3T‐HT)が、レーザ光の照射に対して、ナノ秒オーダの短時間で可逆的に光相転移を起こす現象をみつけた。
（化工日１０／１９）
- ソニーは、青色の新型有機EL（エレクトロ・ルミネッサンス）素子を開発した。素子構造を工夫することにより輝度を従来の５０倍以上にし、色もより青色に近づけた。
（日経産業１０／３０）
UV/EB関連情報（９月度’９８）
- 東芝エンジニアリングは、小型で低価格な光造形システム「True Design Modeler 3D System」の発売を開始した。
（日刊工業９／４）
- JSRはオキセタン系材料を採用した高靭性の光造形モデル用樹脂材料「SCR950」を開発した。ヘリウムカドミウムレーザー用で、価格は２．５万円／kgである。
（化工日９／１６）
- 東亜合成は、光硬化性樹脂オキセタン樹脂を工業化した。用途開発の第一弾として、JSRが光造形用樹脂として応用した。
（日経産業９／２５）
UV/EB関連情報（８月度’９８）
- 大分県産業科学技術センターは、光造形システムを用いる、短時間製作が可能でコストの安いセラミック鋳型技術を開発した。
（日経産業８／３）
- 日本ロックタイトは、使い捨ての医療器具の組み立てに使用する、可視光硬化にも対応する光硬化型接着剤の国内販売を開始する。
（化工日８／５）
- 日産化学工業は、米国ブリューワー・サイエンス社と共同で液晶ディスプレー（LCD)用カラーフィルターに使われるアクリル系感光性樹脂ブラックマトリックス（BM）を開発、サンプル出荷を開始した。
（化工日８／１３）
UV/EB関連情報（７月度’９８）
- ソニーケミカルは、電子回路の高集積化に対応した二層タイプのポリイミド基板を開発した。微細加工が可能な感光性樹脂を採用している。
（日経産業７／１）
- 科学技術庁・金属材料技術研究所は、電子ビームを利用してシリコンのナノ結晶形成に成功した。
（化工日７／３）
- T&K東華は、UVインキの生産能力を２０００年３月をめどに倍増する（同社の既存の生産能力は金額ベースで年間約６０億円）。
（化工日７／９）
- 東京工業大学資源化学研究所の市村国宏教授は、酸増殖反応を利用した新規な可視光感光性高分子を開発した。
（化工日７／１３）
- 財団法人・京都市埋蔵文化財研究所は、JSR子会社のディーメックなどの協力を得て、写真映像と光造形技術を利用して遺物の複製（レプリカ）を素早く製作できるシステムを開発した。
（日経産業７／２７）
- フュージョンUVシステムズ・ジャパンは、外装コーティング剤むけのUV硬化ランプに使用する新型ランプバルブを市場投入する。UV吸収剤の吸収域を避けた出力ピークによって、硬化反応を深部にまで到達させるのが特長。
（化工日７／２８）
UV/EB関連情報（６月度’９８）
- デュポンとチバ・スペシャルティ・ケミカルズは、感光性絶縁材料で提携し、最新の感光性絶縁材料をドライフィルム市場に投入する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズが液状樹脂製造を担当し、デュポンがフィルム生産を担当する。
（化工日６／４）
- フェトム秒テクノロジー研究機構（FESTA)は、時間的揺らぎが１００フェトム（フェトムは千兆分の１）秒以下と、高安定を実現した超高速繰り返しレーザーを開発した。
（日刊工業６／４）
- 米国の大手半導体製造装置メーカー、ノベラスシステムズは、米インテグレーテッド・プロセス・イクイップメント(IPEC)と提携、次世代デバイス製造用の銅多層配線プロセスの開発などで協力して行くことになった。
（日刊工業６／１０）
- 日本ゼオンは、同社の次世代IC用感光剤である電子線(EB)レジストが、世界トップクラスの半導体メーカー、半導体用マスクメーカーの米国３社に９８年中に本格採用される見込みであると発表した。
（日刊工業６／１１）
- 東芝は、波長０.248マイクロメートルのフッ化クリプトン(KrF)エキシマレーザーで、１ギガビットDRAM量産に必要な0.15マイクロメートル露光技術を確立した。
（日刊工業６／１２）
- JSRは、高密度メッキ用ドライフィルムレジスト（DFR)を開発した。ライン／スペースで２５／２５マイクロメートルの高解像度、および金メッキに対応できる耐メッキ性を実現した。
（化工日６／１６）
- 山梨県工業技術センターは、下腿切断者の切断部計測データから、光造形法により義足ソケットを作る「義肢製作支援CAD/CAMシステム」を開発した。
（日刊工業６／１６）
- 不燃建材中堅の神島化学工業は、電子線で樹脂を硬化した住宅内装用のケイ酸カルシウム板「EBボード」を開発、’９８年７月中旬から販売する。’９８年度に２０億円の売り上げを目指す。
（日経産業６／１８）
- 光造形システムのトップメーカー、３Dシステムズは、高強度で高湿度耐性を有する光硬化樹脂３グレード（エポキシ系）を開発した。
（化工日６／１９）
- 農業生物資源研究所と日本原子力研究所は、イオンビームで新花色のキクを作り出したと発表した。
（日刊工業６／２６）
UV/EB関連情報（５月度’９８）
- ＵＶ／ＥＢキユアリング特集記事：
以下の話題などを解説紹介した。
*193ナノメートル（ArFエキシマレーザー）で解像度０.15マイクロメートルのパターン転写。
*フォトポリマー膜表面の光制御。
*リライタブル記録材料。
*光で造る３D（３次元）モデル。
（化工日５／１８）
- 工業技術院電子技術総合研究所は、自由電子レーザー装置で波長２２８ナノメートルの紫外線を発振したと発表した（世界最短水準の記録）。
（日経産業５／２６）
- DVDを使ったカーナビゲーションシステムの新製品競争がパイオニア、松下通信工業、アルパインの各社間で過熱している。
（日経産業５／２６）
UV/EB関連情報（４月度’９８)
- 日油技研工業は、色の変化で紫外線照射量がわかる紫外線検知ラベル「ＵＶラベル」を発売する。貼るだけで肉眼による確認ができる。
（化工日４／８）
- ＪＳＲ子会社ディーメックは、紫外線硬化樹脂を利用した光造形システムで、従来システムに比べて価格が約１／２（２２００万円）の「ソリッドクリエーションシステムＳＣＳ−３００Ｐ」を開発し、販売を開始した。
（日経産業４／１４）
- 工業技術院北海道工業技術研究所は、紫外線レーザーをあてると青白色に発光するプラスチック薄膜を作製する技術を開発した。
（日経産業４／２０）
- 東芝は、中国で現地メーカーと提携、ＤＶＤを生産販売する。青島海信数字音像有限公司とＤＶＤの技術合作契約を締結した。
（日刊工業４／３０）
UV/EB関連情報（３月度’９８)
- 凸版印刷は、設計システムにシミュレーション機能を加えたプリント配線板の新設計手法を開発した。
（日経産業３／５）
- 西久保神奈川大学教授の業績（ノルボルナジエン（NBD)とその関連化合物による光機能性高分子に関する研究）を紹介。
（化工日３／１６）
- CCS(コンピュータケミストリーシステム）一覧表（５１４製品の商品名、機能・特徴、ソフト価格など）。
（化工日３／２４、２５）
- 日本原子力発電、原子力燃料工業、大阪府立大は、弱い放射線（１グレイ＝１００rad）に反応する光酸発生剤〜酸〜色素からなる発色系を共同開発した。
（日刊工業３／２６）
- 三菱化学は、韓国の三養社とフォトレジスト生産販売の合弁会社「韓国リソケム」を設立する。９９年２月に完工予定。
（日刊工業３／２７）
UV/EB関連情報（２月度’９８）
- 共栄社化学は、UV硬化型オリゴマーの無着色タイプ４種を開発した。新市場開拓を行う。
（化工日２／６）
- スリーボンドは、光硬化性の瞬間接着剤（光アニオン重合タイプ）２種を開発実用化した。５月販売予定。
（日刊工業２／９）
- 東ソーは、光磁気ディスク（MO）の生産を、年内に年間８００万枚に引き上げる（従来の３００万枚増）。
（日経産業２／１０）
- JSRは、UV硬化型コーティング剤「デソライト」の用途を拡大する。ハードコート用途をターゲットに予定。
（化工日２／２０）
- 三菱化学は、可視光で硬化する炭素繊維シートコンクリート補強用含浸接着剤を開発した。施工工期大幅短縮を可能にする。
（日刊工業２／２６）
UV/EB関連情報（１月度’９８）
- 東京応化工業は、半導体・LCD製造装置事業を強化する。２０００年に売上高２００億円を想定。
(化工日１／１９）
- クラレは、光・化学重合用の歯科用接着剤「クリアフィル ライナボンドIIΣ」を開発した。２月から販売予定。
（化工日１／２０）
- チバ・スペシャルティ・ケミカルズは、アライドコロイド（英）を買収した。特殊化学品分野で世界最大規模に。
（化工日１／２３）
- アルモニクス社（浜松市）は、光造形システム向けデータの新規格「新STLフォーマット」を開発した。
（日刊工業１／２３）